WO3 filmlerin mikroyapısal kusur ve optik özelliklerinin incelenmesi
Künye
Gülen, O.E. (2022) WO3 filmlerin mikroyapısal kusur ve optik özelliklerinin incelenmesi. Yayımlanmamış yüksek lisans tezi, Çanakkale Onsekiz Mart Üniversitesi, Çanakkale.Özet
Bu çalışmada, WO3 filmleri, asidik ortamda kimyasal banyo yöntemiyle In:SnO2 (ITO) substratları üzerinde biriktirildi. Sentezlenen WO3 filminin yapısal, morfolojik ve optik özellikleri x-ışını kırınımı (XRD), taramalı elektron mikroskobu (SEM), atomik kuvvet mikroskobu (AFM), fotolüminesans (PL), Uv-Vis ve Raman spektrofotometresi kullanılarak incelenmiştir. X-ışını desenlerinden, tungsten oksit kaplama monoklinik faz yapısı sergilemektedir. Nanoçubuk/nano-diĢ karışık formlarının göreceli homojen partikül dağılımı yüzeyde gözlemlenmiştir ve ayrıca yüzey pürüzlülüğü literatürdeki benzer çalışmalara göre daha azdır. Yüzey kusuru emisyon zirveleri, özellikle oksijen boşlukları PL spektrumundan belirlenir. Yeşil emisyon, heterojen film büyüme sürecine atfedilir. Filmlerin Raman spektrumları WO3 oluşumunun kanıtıdır. Bu sonuçlardan, toplama-biriktirme mekanizması WO3 film büyüme sürecinden sorumludur. In this study, WO3 films were simply deposited onto In:SnO2 (ITO) substrates by chemical bath in acidic medium. Structural, mophological and optical properties of the synthesized WO3 film were investigated by using x-ray diffraction (XRD), scanning electron microscope (SEM), atomic force microscope (AFM), photoluminescence (PL), Uv-Vis and Raman spectrophotometer. From x-ray patterns, the tungsten oxide coating exhibits a monoclinic phase structure.Relative homogeneous particle distribution of nanorod/nano-tooth mixed forms have been observed on the surface and also surface roughness is less compared to similar studies in the literature. Surface defect emission peaks esepecially oxygen vacancies are determined from PL spectrum. Green emission is attributed to heterogeneous film growth process. Raman spectra of the films is proof WO3 formation. From these results, the aggregation–deposition mechanism is responsible to WO3 film growth process.