Plazma polimerizasyonuyla fluoren kopolimer ince filmlerin üretilmesi ve karakterizasyonları

Bu çalışmada çift deşarj plazma tekniği kullanılarak Floren kopolimer ince filmler sentezlendi. Floren kopolimerleri tiyofen, anilin ve pirol kullanılarak elde edildi. İnce film kopolimerleri Si wafer ve cam alttaşlar (substrate) üzerinde büyütülerek, moleküler yapıları X-ışın foto elektron spektroskopisi (XPS), Fourier transform kızılötesi (FTIR), morötesi–görünürbölge (UV-Vis) spektrumları ve morfolojileri taramalı elektron mikroskobu (SEM) ile tayin edildi. XPS, FTIR ve UV-vis spektrumlarından kopolimerlerin üretildiği, yüksek plazma enerjilerinde monomerlerin parçalandığı saptandı. Ayrıca UV-vis spektrumundan enerji band boşluklarının (Eg) 1.8 - 2.5 eV aralığında oldukları, küçük değerden büyüğe doğru floren-pirol, floren-tiyofen, floren-anilin olarak gözlendi. Ayrıca, yüksek enerji değerlerinde ince filmlerin yüzeyinin çok düzgün olduğu, düşük enerji değerlerinde ise yüzeyinin sub-mikron mertebesinde düzensiz taneciklerden oluştuğu SEM ile görüntülendi.

In this study, fluoren copolymer thin films were synthesized via double decharging technique. Fluoren copolymers were generated by tiyophene, anilyn and pirol. Thin film copolymers were synthesized on si wafer and substrates; molecular structure via xray photo electron spectroscopy (xps), Fourier transform infrared (ftr), ultraviolet visible part (uv-vis) spectrums and morphologies were detected via electro scanner microscope (sem). It was observed that copolymers were generated through xps, ftir and uv-vis spectrums; monomers were disintegrated under high plasma energy. In addition to this, uv-vis energy band space (Eg) was monitored to be in a range between 1.8-2.5 eV. and in an ascending order, followed as fluoren-pirol, fluoren-tiyofene and fluoren-anilin. Detected via SEM, the thin film surface was smooth under high levels of energy, whereas it was composed of irregular particles in sub-micron levels under low energy.